中石科技：公司材料未应用于光刻机领域

财迅通3月12日讯，中石科技（300684.SZ）在互动平台针对投资者提出的问题进行了答复。

问：光刻胶树脂需达到PPB级金属杂质控制，而公司现有电磁屏蔽材料生产中涉及高分子材料提纯工艺。请问公司纯化技术（如分子蒸馏、离子交换）是否具备向光刻胶树脂生产迁移的可能性？是否与国内光刻胶企业（如南大光电、晶瑞电材）开展联合研发？

答：尊敬的投资者您好，公司电磁屏蔽材料产品及相关技术暂未应用于光刻胶领域，暂未与您所所提到的客户开展合作。感谢您的关注！

问：ASML光刻机的光源系统（如EUV激光等离子发生器）需在极端温度下保持稳定性，公司的高导热相变材料（如导热凝胶）或电磁屏蔽涂料是否已通过国内光刻机厂商（如上海微电子）的测试？若未参与，是否因材料纯度（如金属离子杂质含量）未达到半导体设备级标准？

答：尊敬的投资者您好，公司的高导热相变材料或电磁屏蔽涂料尚未应用于光刻机领域。感谢您的关注！。