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碳化硅概念板块微跌,个股表现分化

2025-03-27 17:39:06
来源
财迅通

27日收盘,碳化硅概念板块指数报1332.45点,跌幅0.32%,成交89.94亿元,换手1.89%。板块个股中,跌幅最大的前3个股为:柘中股份报11.70元,跌-2.17%。温州宏丰报6.04元,跌-2.42%。扬杰科技报46.25元,跌-7.28%。涨幅最大的前3个股为:派瑞股份报16.26元,涨4.23%;力源信息报10.25元,涨2.81%;芯朋微报50.60元,涨1.65%。

硅是制造第一代半导体芯片及器件最为主要的原材料,但其性能已难以满足高功率及高频器件的需求。碳化硅(SiC)材料作为第三代半导体的主要原材料,有望在高功率和高频领域部分替代硅,成为第三代半导体产业发展的重要基础材料。碳化硅功率器件以其耐高压、耐高温、低损耗等优异性能,能够有效满足电力电子系统的高效率、小型化和轻量化要求,在新能源汽车、光伏发电、轨道交通、智能电网等领域具有明显优势。此外,SiC功率器件在开关频率、散热能力和损耗等指标上也远好于硅基器件,具体表现为阻抗更低,可以缩小产品体积并提高转换效率;同时,其工作频率可达硅基器件的10倍,且效率不随频率升高而降低,从而降低能量损耗。

半导体芯片分为集成电路和分立器件,其基本结构均可划分为“衬底-外延-器件”结构。在碳化硅(SiC)产业链中,SiC衬底是上游环节,价值量占比高达46%,为最核心的部分。SiC衬底由SiC粉经过长晶、加工、切割、研磨、抛光、清洗等环节最终形成,其中SiC晶体的生长为核心工艺,难点在于提升良率。SiC衬底分为导电型和半绝缘型,分别应用于功率和射频器件领域。SiC外延片属于中游环节,价值量占比23%,它是在衬底上再覆盖一层薄膜以满足器件生产条件,具体分为导电型用于功率器件,以及半绝缘型用于射频器件。SiC器件制造则是下游环节,价值量占比约20%(包括设计、制造和封装),主要应用在新能源汽车、电源设备、光伏等领域。目前,中国的碳化硅器件厂商以IDM模式为主,少量为纯设计企业。

中国碳化硅产业链上游为衬底材料,主要由SIC衬底构成,全球范围内该领域美国占据主导地位,市场份额约60%,而中国企业的市占率约为10%,主要集中在4英寸和6英寸的SiC衬底。中游则为SiC外延设备及外延片,这一环节被Axitron、LPE、TEL和Nuflare四大龙头企业所垄断,全球SiC外延设备的市场集中度极高。SiC外延片对SiC器件的性能至关重要,中国企业正积极布局SiC外延环节,以推动半导体国产替代。下游则是功率器件,其生产包括芯片设计、芯片制造和封装测试等环节,主要应用于新能源汽车、电源设备、光伏等领域。目前,中国碳化硅器件厂商以IDM(集成设备制造)模式为主,少量为纯设计企业。整个碳化硅产业链从上游到下游,涵盖了从原材料到终端应用的多个环节,呈现出多元化的发展态势。